単結晶基板　Crystals Substrates

米国MTI社の種類豊富な単結晶基板を1枚から低価格でご購入いただけます。
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※商品名等の“1sp”は片面研磨、“2sp”は両面研磨を表しております。

(A-C)	(D-K)	(K-M)	(N-P)	(T-T)	(W-Z)
Aluminum ＜アルミニウム＞	DyScO3	KTN ＜タンタル酸ニオブ酸カリウム＞	NaCl ＜塩化ナトリウム＞	TbScO3	W(Polycrystal) ＜タングステン＞
Al2O3 ＜sapphire:サファイア＞	Diamond ＜ダイヤモンド＞	LaF3 ＜フッ化ランタン＞	NdCaAlO4 ＜アルミ酸ネオジムカルシウム＞	Ti(polycrystal) ＜チタン＞	WS2 ＜硫化タングステン(IV)＞
AlN ＜窒化アルミニウム＞	Diamond Epi Film on Si ＜ダイヤモンド＞	LaAlO3 ＜ランタンアルミネート＞	Nickel ＜ニッケル＞	TiO2(Anatase) ＜酸化チタン(IV)＞	WSe2 ＜二セレン化タングステン＞
Ag ＜銀＞	Fe(SS-Poly) ＜鉄＞	LiAlO2 ＜リチウムアルミネート＞	NdGaO3 ＜ネオジムガレート＞	TiO2(Rutile) ＜酸化チタン(IV)＞	WTe2
Au ＜金＞	Fe203	LiGaO2 ＜リチウムガレート＞	Nd3Ga5O12 (NGG)	TGG (Terbium Gallium Garnet)	YAlO3(YAP)
Au/Cr coated SiO2/Si	Fe304	La3Ga5SiO14 ＜ランガサイト＞	Nb:TiO2	TeO2 ＜二酸化テルル＞	YAG <イットリウムアルミニウムガーネット>
BaF2 ＜フッ化バリウム＞	Ga2O3-ß <酸化ガリウム>	LSAT	PbWO4 ＜タングステン酸鉛＞		YIG <イットリウム鉄ガーネット(Y3Fe5O12)>
	GaAs ＜ヒ化ガリウム＞	LiNbO3 ＜ニオブ酸リチウム＞	PMN-PT		YVO4 ＜イットリウムバナデート＞
Bi2Te3 ＜テルル化ビスマス＞	GaN ＜窒化ガリウム＞	LiTaO3 ＜タンタル酸リチウム＞	PbS ＜硫化鉛＞		YSZ ＜イットリア安定化ジルコニア＞
Bi4Ge3O12 (BGO12) ＜ゲルマン酸ビスマス＞	GaP ＜リン化ガリウム＞	Lu2SiO5:Ce ＜ケイ酸ルテチウム＞	PbSe ＜セレン化鉛＞		YSGG
Bi12GeO20 (BGO20) ＜ゲルマニウム酸ビスマス＞	GaSb ＜アンチモン化ガリウム	LiF ＜フッ化リチウム＞	PbTe ＜鉛テルル＞		ZnO ＜酸化亜鉛＞
Black Phosphorus <黒リン>	Ge ＜ゲルマニウム＞	LSGM	ScMgAlO4(SAM)		ZnS ＜硫化亜鉛＞
CaF2 ＜フッ化カルシウム＞	GGG & SGGG	MgAl2O4(spinel) ＜スピネル＞	SrTiO3 ＜チタン酸ストロンチウム＞		Zn ＜亜鉛＞
CaCO3 (Calcite) ＜炭酸カルシウム(カルサイト)＞	GdScO3 ＜スカンジム酸ガドリニウム＞	Mg ＜マグネシウム＞	SrLaAlO4		ZnSe ＜セレン化亜鉛＞
Cu ＜銅＞	GSGG & GYSGG	MgF2 ＜フッ化マグネシウム＞	SrLaGaO4		ZnTe ＜テルル化亜鉛＞
CdWO4 ＜タングステン酸カドミウム＞	Graphite ＜グラファイト＞	MgO ＜酸化マグネシウム＞	SiO2(quartz) ＜二酸化ケイ素(石英)＞
CsPbBr3 ＜三臭化鉛セシウム＞	InAs ＜インジウムヒ素＞	Mica ＜マイカ雲母＞	SiC(4H,6H,3C) ＜炭化ケイ素＞
CeO2(Epi-film) ＜酸化セリウム＞	InP ＜リン化インジウム＞	Mo(Polycrystal) ＜モリブデン＞	SBN ＜ニオブ酸ストロンチウムバリウム＞
CdS ＜硫化カドミウム＞	InSb ＜アンチモン化インジウム＞	MoS2 ＜ニ硫化モリブデン＞	Si ＜ケイ素＞		Zero Diffraction Plate <ｾﾞﾛ回折ﾌﾟﾚｰﾄ>
CdSe ＜セレン化カドミウム＞	KCl ＜塩化カリウム＞	MoSe2 ＜二セレン化モリブデン＞	SOI (Silicon On Insulator)		Two Dimensional Crystal <2次元結晶>
CdTe & CdZnTe/CZT	KH2PO4 ＜リン酸二水素カリウム＞	MoTe2 ＜ニテルル化モリブデン＞	SmScO3
CsI(TI) ＜タリウム活性化ヨウ化セシウム＞	KTaO3 ＜タンタル酸カリウム＞		SOS (Silicon on Sapphire)
Ceramic/Glass	Epi thin film on substrate	Metal substrate & Foil	Target Materials	Thermal Oxide wafer	New substrate !!!

※赤字の単結晶は、毒物及び劇物取締法対象のため、ご注文後に毒物及び劇物譲受書の記入、提出をしていただきます。
※米国MTI社の基板のなかには量産品ではなく研究段階の商品もあり、サイトに提示している仕様とは若干ずれてしまうことや、またロットによってはバラつきがあるものもございます。恐れ入りますが、予めご了承のうえお見積もりをご依頼ください。

用途別で探すには、こちらのページをご参照ください。

■よくあるお問い合わせ■

Knowledge Center

           MTI Corporation

Knowledge on Crystal Growth

●Verneuil method (doc) (Flamge fusion)
●Czochralski method (doc) (Pulling up)
●Bridgman method (doc) (Pulling down)
●Kryopulos method (doc)
●Bagdasarov (doc) (HDC method)
●LEC method (doc) (Liquid Encapsulated Czochralski)
The development of Crystal Growth Technology (pdf) — Hans J. Scheel, Chairman of IOCG (Excellent review on Crystal growth history and future)

Materials & Crystals Data Base
Constants, Energy Gaps, and Physical Propertiesof Semiconductor related Crystals